研究設備

高真空熱処理・水素ガスチャージ装置

　高真空中で1000℃まで加熱できる炉を用いて、金属試料の脱ガス、表面清浄化を行い、そのままの状態で水素ガスを導入することで試料に水素をチャージします(Sieverts method)。チャージ水素量は雰囲気水素圧を変えることで制御します。水素ガスは水素吸蔵合金から供給する方法に改良しました。この装置を用いて、純鉄中への水素チャージに成功し、純鉄中では水素はプロトンとして拡散することを示すことができました。

電気抵抗率測定装置

　直流定電流電源と7.5桁精度のマルチメーターを用いてPC制御にて複数箇所の試料電圧値を計測します。４端子法接続での計測にて、試料の電気抵抗率を高精度で計測します。周辺温度の影響を極力低減させるために低真空容器内で測定を実施します。

３ゾーン大気炉

引張試験片などの試験片の熱処理を行います。

引張試験ー電気抵抗率　同時測定マルチメーターシステム

定電流下での引張試験中に発生する微小な電圧を計測することで、変形機構の調査を行います。

実体顕微鏡

引張試験機（共用設備）

等温時効熱処理用オイルバス

　100℃、180℃時効用の熱処理を実施します。

その他

　X線回折装置（共用設備）、ディスクパンチシステム(GATAN社製）など。