研究設備

高真空熱処理・水素ガスチャージ装置

　高真空中で1000℃まで加熱できる炉を用いて、金属試料の脱ガス、表面清浄化を行い、そのままの状態で水素ガスを導入することで試料に水素をチャージします(Sieverts method)。チャージ水素量は雰囲気水素圧を変えることで制御します。水素ガスは水素吸蔵合金から供給する方法に改良しました。

定電流マルチチャンネル電気抵抗率測定装置

　直流定電流電源と7.5桁精度のマルチメーターを用いて複数箇所の試料電圧値を計測します。この装置を使用して、引張試験のその場電気抵抗率計測および金属中水素の濃度変化測定を行います。

３ゾーン大気炉

引張試験片などの試験片の熱処理を行います。

実体顕微鏡

引張試験機（共用設備）

等温時効熱処理用オイルバス

　100℃、180℃時効用の熱処理を実施します。

その他

　X線回折装置（共用設備）、ディスクパンチシステム(GATAN社製）など。